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武田 圭生 タケダ ケイキ
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研究分野 【 表示 / 非表示 】
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ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器
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ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学
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高圧物性工学
出身大学院・研究科等 【 表示 / 非表示 】
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室蘭工業大学・大学院
1996年03月,博士前期,工学研究科,電気電子工学専攻,修了,日本国
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室蘭工業大学・大学院
1999年03月,博士後期,工学研究科,生産情報システム工学専攻,修了,日本国
有機金属錯体を利用した電子デバイス材料
研究開発の目的
原子・分子間距離を制御して新電子デバイス材料開発材料の性質を理解するために分子間距離を変えてみたいとき、一部を大きな分子に置換することが行われる。圧力を利用すると調べたい材料を構成する分子のまま距離を制御できる。特に有機物や金属錯体は大きな結晶格子を持つので顕著な圧力効果が期待できる。ピコレベルで分子間距離を制御して光学的性質や電気伝導を調査し、新しい電子デバイス材料の開発に利用する。
研究開発の概要
有機物や金属錯体を利用した新しい電子デバイス材料の開発従来は一次元金属錯体の構成分子を置換して分子間距離を変化させていたが、圧力をかけることで分子間距離を変化させることが可能になった。また、一次元金属錯体は分子同士が近づくと色が多彩に変化し、電気抵抗が急激に減少する。この性質を利用すると、色から圧力が分かる圧力インジケータや電気抵抗から圧力を求める高圧力センサーとして利用できる。
研究開発の特徴/利点
1.研究のポイント | 2.研究の新規性 |
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3.従来の技術に比べての優位性 | 4.特許関連の状況 |
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論文 【 表示 / 非表示 】
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Noncollinear spin structure with weak ferromagnetism in NbMnP
M. Matsuda, D. Zhang, Y. Kuwata, Q. Zhang, T. Sakurai, H. Ohta, H. Sugawara, K. Takeda, J. Hayashi, and H. Kotegawa,Physical Review B,104巻,17号,(頁 1 ~ 9),Article Number:174413,2021年11月
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Crystallographic and superconducting properties of filled skutterudite SrOs4P12
Y. Kawamura, S. Deminami, K. Takeda, T. Kuzuya, L. Salamakha, H. Michor, E. Bauer, J. Gouchi, Y. Uwatoko, T. Kawae, C. Sekine,Physical Review B,103巻,8号,(頁 1 ~ 9),Article Number:085139,2021年02月
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First-order phase transition to a nonmagnetic ground state in nonsymmorphic NbCrP
Yoshiki Kuwata, Hisashi Kotegawa, Hideki Tou, Hisatomo Harima, Qing-Ping Ding, Keiki Takeda, Junichi Hayashi, Eiichi Matsuoka, Hitoshi Sugawara, Takahiro Sakurai, Hitoshi Ohta, and Yuji Furukawa,Physical Review B,102巻,20号,(頁 1 ~ 9),Article Number:205110,2020年10月
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Structural Phase Transition in Antiferromagnet CeCoSi compared to Isostructural LaCoSi and PrCoSi
Y. Kawamura, H. Tanida, R. Ueda, J. Hayashi, K. Takeda, C. Sekine,Journal of the Physical Society of Japan,89巻,5号,(頁 1 ~ 6),Article Number:054702,2020年04月
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Helimagnetic Structure and Heavy-Fermion-Like Behavior in the Vicinity of the Quantum Critical Point in Mn3P
H. Kotegawa, M. Matsuda ,F. Ye, Y. Tani, K. Uda, Y. Kuwata,H. Tou,E. Matsuoka, H. Sugawara, T. Sakurai, H. Ohta, H. Harima , K. Takeda ,J. Hayashi, S. Araki, T.C. Kobayashi,Physical Review Letters,124巻,(頁 1 ~ 6),Article Number:087202,2020年02月
国際会議Proceedings 【 表示 / 非表示 】
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Negative Persistent Photoconductivity Effect on WeakAnti-Localization in Hetero-Interface of InSb/GaAs(100)
A. Fujimoto, S. Ishida, K. Takeda, A. Okamoto, and I. Shibasaki,AIP Conf. Proc.,893巻,(頁 567 ~ 568),2007年
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Study of Spin-Orbit Interaction in AlxGa1
S. Ishida, A. Fujimoto, K. Oto, K. Takeda, and I. Shibasaki,AIP Conf. Proc.,893巻,(頁 569 ~ 570),2007年
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Magneto-Transport Properties in AlxGa1-xAsySb1-y/InAs Quantum Wells
S. Ishida, A. Fujimoto, K. Takeda, A. Souma, K. Oto, A. Okamoto and I. Shibasaki,The Institute of Physics Conference Series Number 187,(頁 585 ~ 590),2005年
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Spin-Orbit Interactionin InSb Thin Films Grown on GaAs(100) Substrates by MBE: Effect of Hetero-Interface
S. Ishida, K. Takeda, A. Okamoto, I. Shibasaki,AIP Conf. Proc.,772巻,(頁 1287 ~ 1288),2005年
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Quantum Transport in the Accumulation Layer at InSb/GaAs(100) Hetero-Interface
S. Ishida, A. Fujimoto, K. Takeda, A. Souma, K. Oto, A. Okamoto and I. Shibasaki,The Institute of Physics Conference Series Number 187,(頁 67 ~ 72),2005年
研究報告 【 表示 / 非表示 】
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CeCoSiの室温高圧下粉末X線回折実験
上田諒大, 川村幸裕, 谷田博司, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ,Photon Factory Activity Report,2019年08月
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部分充填スクッテルダイト化合物 LaxRh4Sb12の高圧下における構造安定性
林純一, 中島良介, 佐藤雄也, 秋元大輔, 梶山誉文, 川村幸裕, 武田圭生, 関根ちひろ,Photon Factory Activity Report 2017,2018年
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アルカリ土類を含む As 系充填スクッテルダイト化合物の体積弾性率
川村幸裕,, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ,Photon Factory Activity Report 2017,2018年
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Pressure-induced structural change of unfilled skutterudite compound IrSb3
K. Matsui, J. Hayashi, K. Ito, H. Nakamura, K. Takeda, C. Sekine,Photon Factory Activity Report 2009,28巻,(頁 224 ~ ),2011年
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Pressure-induced irreversible isosymmetric transition of unfilled skutterudite compound CoSb3
K. Matsui, J. Hayashi, K. Akahira, K. Ito, K. Takeda, C. Sekine,Photon Factory Activity Report 2008,27巻,(頁 196 ~ ),2010年
学会等発表 【 表示 / 非表示 】
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高圧下における半導体ナノ粒子間の相互作用
武田 圭生,丹羽 正貴,林 純一,葛谷 俊博,関根 ちひろ,濱中 泰,若林 大佑,佐藤 友子,船守 展正,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,KEK 物質構造科学研究所、J-PARCセンター、総合科学研究機構(CROSS)、PFユーザーアソシエーション(PF-UA)、J-PARC MLF利用者懇談会,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,2022年03月07日,オンライン開催
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非充填スクッテルダイト化合物 CoSb3の圧力誘起構造変化による格子熱伝導率低減効
淡路 功太、西村 和也、諏訪 雄哉、林 純一、川村 幸裕、武田 圭生、後藤 弘匡、関根 ちひろ,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,KEK 物質構造科学研究所、J-PARCセンター、総合科学研究機構(CROSS)、PFユーザーアソシエーション(PF-UA)、J-PARC MLF利用者懇談会,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,2022年03月07日,オンライン開催
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CeCoSi の高圧低温下における秩序相と構造相転移 II
川村 幸裕、池田 翔、林 純一、武田 圭生、関根 ちひろ、松村 武、郷地 順、上床 美也、冨田 崇弘、高橋 博樹、谷田 博司,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,KEK 物質構造科学研究所、J-PARCセンター、総合科学研究機構(CROSS)、PFユーザーアソシエーション(PF-UA)、J-PARC MLF利用者懇談会,2021年度量子ビームサイエンスフェスタ,2022年03月07日,オンライン開催
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Electrical properties of GdRu4P12 under high pressure and low temperature
K. Suwa, J. Hayashi, C. Sekine, and K. Takeda,Muroran-IT Rare Earth Workshop 2021,室蘭工業大学希土類材料研究センター,Muroran-IT Rare Earth Workshop 2021,2021年10月27日,オンライン開催,日本国
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Structural Study of CeCoSi under Pressure
Alisha Nurshafiqah Binti Amat Dalan, Kakeru Ikeda, Hiroshi Tanida, Junichi Hayashi, Keiki Takeda, Chihiro Sekine, and Yukihiro Kawamura,Muroran-IT Rare Earth Workshop 2021,室蘭工業大学希土類材料研究センター,Muroran-IT Rare Earth Workshop 2021,2021年10月27日,オンライン開催,日本国
科学研究費助成事業 【 表示 / 非表示 】
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圧力印加による量子ドット3次元超格子の創製とドット間協力現象に基づく光機能の開拓
2020年度 ~ 2022年度,基盤研究(C),20K05256
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2017年度,基盤研究(C),16K06810
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2016年度 ~ 2018年度,基盤研究(C),16K06810
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2016年度,基盤研究(C),16K06810
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6−6型高圧発生装置を用いた新奇希土類プニクタイドの創製
2015年度,基盤研究(B),23340092
担当授業科目 【 表示 / 非表示 】
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電気回路基礎(A~Dクラス)
2022年度,学部
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電気電子工学実験A(週2回開講)
2022年度,学部
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電気電子工学実験A(週2回開講)
2022年度,学部
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電気回路演習
2022年度,学部
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電気回路
2022年度,学部
公開講座等 【 表示 / 非表示 】
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体験しよう!!未来を変える夢の新材料と不思議な超高圧の世界
2021年12月18日,室蘭工業大学,日本学術振興会,室蘭工業大学,ひらめき☆ときめきサイエンス,講演
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体験しよう!!未来を変える夢の新材料と不思議な超高圧の世界
2021年07月17日,室蘭工業大学,室蘭工業大学,室工大サイエンススクール,講演
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体験しよう! 未来を変える夢の新材料と不思議な超高圧の世界
2021年03月20日,室蘭工業大学,日本学術振興会,室蘭工業大学,ひらめき☆ときめきサイエンス,講演
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体験しよう! 未来を変える夢の新材料と不思議な超高圧の世界
2020年12月19日,室蘭工業大学,日本学術振興会,室蘭工業大学,ひらめき☆ときめきサイエンス,講演
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見てわかる物質の不思議 圧力でこおらせよう
2019年12月21日,室蘭工業大学希土類材料研究センター,室蘭市青少年科学館,サイエンススクール,講演
学会・研究会の主催等 【 表示 / 非表示 】
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第60回高圧討論会
札幌市,委員,日本
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平成29年電気学会 基礎・材料・共通部門大会(A部門大会)
室蘭市,委員,日本
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高圧討論会
室蘭市,委員,日本